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藥用輔料制冷加熱控溫系統(tǒng) 膜分離控溫TCU

簡要描述:【無錫冠亞】藥用輔料制冷加熱控溫系統(tǒng) 膜分離控溫TCU,應(yīng)用于對玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

  • 產(chǎn)品型號:SUNDI-135
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-01-11
  • 訪  問  量:709
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價(jià)格區(qū)間10萬-20萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥,綜合


無錫冠亞冷熱一體機(jī)典型應(yīng)用于:

高壓反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、

雙層反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制



無錫冠亞制冷加熱控溫系統(tǒng)應(yīng)用介紹


反應(yīng)釜配套制冷加熱控溫系統(tǒng)應(yīng)用:

反應(yīng)釜配套制冷加熱控溫系統(tǒng)?泛應(yīng)于?油、化?、橡膠、染料、醫(yī)藥、?品等?產(chǎn)型用戶和各種科研實(shí)驗(yàn)項(xiàng)?的研究來完成?藝過程的容器。無錫冠亞制冷加熱控溫系統(tǒng)控溫時(shí)溫度穩(wěn)定、升降溫速率快、可連續(xù)穩(wěn)定運(yùn)、實(shí)時(shí)記錄反應(yīng)過程溫度。

微通道反應(yīng)器配套制冷加熱控溫系統(tǒng)應(yīng)用:

微通道反應(yīng)器配套制冷加熱控溫系統(tǒng)可執(zhí)不同類型的反應(yīng),于微反應(yīng)丁藝開發(fā)及精細(xì)化學(xué)品合成。無錫冠亞制冷加熱控溫系統(tǒng)寬溫度范圍,?精度智能溫控,單流體控溫,需更導(dǎo)熱介質(zhì)穩(wěn)定?產(chǎn)。

新能源汽車制冷加熱測試系統(tǒng)應(yīng)用:

新能源汽?業(yè),制冷加熱控溫系統(tǒng)主要應(yīng)在測試、檢測臺(tái)架和材料測試等環(huán)節(jié)。無錫冠亞制冷加熱控溫系統(tǒng)可同時(shí)對多個(gè)樣品進(jìn)溫度控制,控制系統(tǒng)可記錄與導(dǎo)出測試過程中的溫度數(shù)據(jù),可滿??部分元件在特定的溫度變化條件下測試。

半導(dǎo)體行業(yè)制冷加熱測試系統(tǒng)應(yīng)用:

制冷加熱控溫系統(tǒng)應(yīng)于半導(dǎo)體、LEDLCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。芯片、模塊、集成電路板、電子元器件等提供準(zhǔn)確且快速的環(huán)境溫度。無錫冠亞制冷加熱控溫系統(tǒng)是對產(chǎn)品電性能測試、失效分析、可靠性評估的儀器設(shè)備。



型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質(zhì)溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設(shè)備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設(shè)備出口溫度與反應(yīng)物料溫度的溫差可控制、可設(shè)定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認(rèn)PT100)

溫度反饋

設(shè)備導(dǎo)熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應(yīng)器物料溫度(外接溫度傳感器)三點(diǎn)溫度

導(dǎo)熱介質(zhì)溫控精度

±0.5℃

反應(yīng)物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機(jī)

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機(jī)

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護(hù)

具有自我診斷功能;冷凍機(jī)過載保護(hù);高壓壓力開關(guān),過載繼電器、熱保護(hù)裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個(gè)系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時(shí)不會(huì)有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運(yùn)行中不會(huì)因?yàn)楦邷厥箟毫ι仙蜏刈詣?dòng)補(bǔ)充導(dǎo)熱介質(zhì)。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風(fēng))cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風(fēng)) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風(fēng)冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/






藥用輔料制冷加熱控溫系統(tǒng) 膜分離控溫TCU

藥用輔料制冷加熱控溫系統(tǒng) 膜分離控溫TCU


  隨著科技的不斷發(fā)展,半導(dǎo)體行業(yè)對設(shè)備性能和溫度控制的要求越來越高。射流式制冷加熱控溫系統(tǒng)作為一種溫度控制技術(shù),在半導(dǎo)體行業(yè)中得到了廣泛應(yīng)用。然而,在購買此類設(shè)備時(shí),需要注意以下幾點(diǎn),以確保選購到適合且可靠的設(shè)備。

  1、了解設(shè)備性能參數(shù)

  射流式制冷加熱控溫系統(tǒng)的性能參數(shù)是決定設(shè)備性能的關(guān)鍵因素。購買時(shí)需要了解設(shè)備的制冷/加熱能力、溫度控制范圍、溫度波動(dòng)性等參數(shù),以確保選購的設(shè)備能夠滿足生產(chǎn)工藝的要求。

  2、考慮設(shè)備可靠性

  半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中需要溫度控制精度高且穩(wěn)定性好的設(shè)備。購買射流式制冷加熱控溫系統(tǒng)時(shí),需要選擇具有高可靠性的設(shè)備,如采用品質(zhì)的材料、加工工藝和嚴(yán)格的質(zhì)量控制等。此外,了解設(shè)備的故障率和使用壽命等信息也是選購時(shí)需要考慮的因素。

  3、關(guān)注設(shè)備適用性

  不同的半導(dǎo)體工藝需要不同的溫度控制要求。購買射流式制冷加熱控溫系統(tǒng)時(shí),需要注意設(shè)備的適用性。例如,對于一些需要快速加熱或冷卻的工藝,需要選擇具有快速響應(yīng)速度的設(shè)備;對于一些需要長時(shí)間穩(wěn)定控制的工藝,需要選擇具有長時(shí)間穩(wěn)定性的設(shè)備。



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